藏文化博物館二期標識系統(tǒng)設計制作案例，藏文化博物館標識牌設計制作項目由西安永創(chuàng)標識加工廠完成，以下是藏文化博物館此次標識牌設計制作案例圖：禁止拍照 請勿觸摸 警示牌西寧經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)生物科技產(chǎn)業(yè)園的青海藏文化博物院二期項目開工建設。項目建設計劃投資兩億元，建設面積28000平方米，計劃3年建成，建成后將成為生物產(chǎn)業(yè)園博物館群的重要組成部分。藏文化是中華民族優(yōu)秀傳統(tǒng)文化的重要組成部分，該省作為藏文化的發(fā)祥地區(qū)之一，擁有深厚的文化積淀，是該省文化名省建設的一大特色和優(yōu)勢。